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应用：
用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定，装载量大、镀膜均匀性好的特点。广泛应用于手表、眼镜、资讯产品、刀具、模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行业表面处理，颜色：
镀制金色，玫瑰金，香槟金，黑，真空镀膜机厂家，蓝色，七彩、银色等膜层的理想设备，采用涂覆水溶性涂料遮挡技术可以得到各种花纹图。环保：
pvd离子镀膜机工艺绿色环保，玻璃真空镀膜机，所镀膜层无毒，对人体无害，是解决水电镀厂环境污染问题，替代传统水电镀金，镀烙的理想设备。
卷绕式磁控镀膜机
卷绕式镀膜设备 - ITO膜卷绕式真空磁控镀膜机
设备特点：
ito薄膜是什么 :ITO薄膜的特性及用途
ITO薄膜是一种n型半导体材料，中频离子真空镀膜机，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。接下来，详细为你说下ito薄膜是什么，ITO薄膜的特性及用途。
一、ito薄膜是什么
ITO薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（EL/OLED）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极常用的薄膜材料。
真空蒸发镀膜机设备运行过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，南通真空镀膜机，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。
当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L，并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0，在相距为L的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1，而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，则有
N1/N0= 1- exp(L/λ) (1)
在室温(25℃)和气体压力为p(Pa)的条件下，残余气体分子的平均自由程为
λ = 6.65×10-1/pcm (2)
由上式计算可知，在室温下，p=10-2 Pa 时，λ=66.5 cm，即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5cm。
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